INFICON石英晶片性能表现超卓和可靠，是目前市场上的晶片及苛刻应用的上佳选择；在各种类型的材料、应用和行业中已有超时数百万次工艺生产应用的成功例子。详情请致电：胡

膜厚控制仪 INFICON, 薄膜镀层控制技术的*者，现在为您提供高生产价值和低拥有成本的先进仪器。 无论您需要控制产品的合格性，或是用于科研项目。INFICON XTC/3能*适应您的要求。 先进，实用的单层和多层镀膜速率控制

IC/6具有宽广的功能，它可启动抽空过程、控制阀门、启用基片加热器等。这些增强的功能使系统无需配备辅助仪器，从而降低系统的复杂性和成本。IC/6的逻辑与控制功能包含100个可编程的逻辑状态；I/O和TTL继电器电路板提供多至24个继电器输出，28个TTL输入，14个TTL输出，20个计数和20个计时。IC6膜厚控制仪

膜厚控制仪普及的多层镀膜控制仪 INFICON SQC310 系列为您提供其它生产厂薄膜控制仪所没有的性能与特色. 同时可为您的应用选择理想的模式: 顺序镀膜（SQC310） 或并行镀膜 （SQC310C）

膜厚监测仪SQM160是利用INFICON石英晶体传感技术在镀膜过程中测量沉积速率和膜厚的精密仪器，标准型有两路传感器输入，同时，4路传感器输入可选，具体视用户实际应用而定；双输出可以向操作者提供直观的模拟沉积速率及膜厚信号。

多用途的IC/5 膜厚控制仪 理想地适用于控制多源、多坩埚、多材料或多过程系统的膜层沉积速率和膜厚。IC/5可满足即使Z复杂、Z高要求与特殊应用的需要。它擅长于过程控制、逻辑功能、程序和膜层储存容量、过程数据管理，尤其是沉积速率与膜厚的控制。

Cygnus 2薄膜沉积控制器在INFICON薄膜沉积控制器可靠成熟的性能基础上，增添了更多不一般的功能，可帮助您实现OLED过程的*大价值。Cygnus 2 使用我们 ModeLock 频率测量系统，提供稳定、高分辨率的速率和厚度测量，速率分辨率可达每 1/10 秒 0.00433 Å/s。

石英晶体监测仪更小的尺寸、更低的成本，拥有传统QCM的*一样的性能。 在测量薄膜沉积速率和膜层厚度中，INFICON新型的Q-podTM传感器是一种外观小巧，成本低廉，测量准确的解决方案。

IQM-233 薄膜沉积控制器 PCI-EXPRESS 卡可使您的 PC 变成薄膜沉积控制器。这种由 INFICON 设计和制造的产品是系统 OEM 或要将薄膜沉积控制器集成到现有 PC 或 PLC 控制系统的所有组织的理想选择。安装简便—只需您提供一个未占用的 PCI Express 插槽。IQM-233 可安装到标准或小型 PC 塔中。