镀膜按类型划分，首先可以分为：干式镀膜和湿式镀膜两种。

其中干式镀膜主要有：真空蒸发镀膜、溅射镀膜、真空离子镀膜3种

真空蒸发镀膜可细分为：

电阻蒸发镀膜（适用于蒸发低熔点材料，如金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等）

电子束蒸发镀膜（可蒸发难熔金属，如钼、钨、锗、二氧化硅、氧化铝等）

高频感应加热蒸发镀膜（蒸发速率达，蒸发源温度稳定，操作简单，对材料纯度要求较宽。）

电弧加热蒸发镀膜（特别适用于熔点高，同时具有一定导电性的材料，如石墨；装置简单，较廉价，缺点是放电产生的微米级颗粒会影响膜的一致性）

激光束蒸发镀膜（可蒸发任何高熔点材料）

反应蒸发镀膜（蒸镀难熔化合物，如氟化镁、氧化钡、氧化锡等）

溅射镀膜可分为：

直流二极溅射：仅适用于导电膜

直流三极溅射：仅适用于导电膜

直流四极溅射：仅适用于导电膜

射频溅射：采用射频电源，可镀氧化硅，氧化铝材料

对向靶溅射：可提高沉积速率，制取磁性铁、镍和其他磁性合金膜

离子束（IBS）溅射：利用离子源发出离子

磁控溅射：在直流二极溅射的基础上，在靶材后面安放了磁钢，使用弧光发电，用于蒸发源。

真空离子镀膜可分为：

阴极电弧离子镀：提高了沉积速率和膜的质量；还可生成致密均匀，附着力优良的化合物膜

空心阴极离子镀：使用空心阴极等离子电子束

多弧离子镀

湿式镀膜可分四种：

电镀

阳极氧化

化学镀

化学转化膜处理